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金屬首飾真空鍍膜機

金屬首飾真空鍍膜機集成了直流磁控濺射,中頻濺射和電弧離子蒸發技術,結合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。 各種膜性能的改善,能大衣合金薄膜,復合膜,多層復合膜的金屬表面上以及非金屬。 經過多年專門的研發我們的工程師,通過獨特的陰極電弧離子和非平衡磁控系統,我們開發了一套計算機自動控制系統使涂膜附著力密度以及復雜的一致性好,解決手工操作的復雜性,膜的顏色不一致等問題?

特點:
1。 磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論,擴大在陰極表面磁場接近工件表面,以增加濺射原子的電離率。 它保留了磁控濺射的細膩和光澤度增加。
?2電弧等離子體蒸發源性能可靠,能夠根據工作電流30A時,優化陰極和磁場結構涂層,涂膜和基材界面產生原子擴散,再加上離子束輔助功能沉積。
應用行業:設備被廣泛應用于IPG的時鐘,IPS手表和鐘表,槍支的IP,手機外殼,五金,潔具,刀具,防摩擦的工具,模具和模具等,它可以大衣的TiN,TiCN涂層,氮化TIALN,TiNbu,TiCrN,氮化鋯,各類鉆石薄膜(DLC)。

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